新型硅前驅體_南大光電

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三乙硅烷基胺（TDSA）

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三乙硅烷基胺（TDSA）

中文名：三乙硅烷基胺
英文名：Trisdisilanylamine
CAS號：14635-45-1
純度：≥98.0%
用途：通過化學氣相沉積（CVD）或原子層沉積（ALD）形成含硅薄膜
規格：公斤級

1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷（TADS）

1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷（TADS）

中文名：1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷
英文名：1，1，1-Tris(dimethylamino)disilane
CAS號：2273763-87-2
純度：≥99.0%
用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成高密度氧化硅
規格：公斤級

二異丙氨基乙硅烷（DPDS）

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二異丙氨基乙硅烷（DPDS）

中文名：二異丙氨基乙硅烷
英文名：Diisopropylaminodisilane
CAS號：151625-25-1
純度：≥99.0%
用途：通過氣相沉積形成晶種層
規格：公斤級

1，1-二氯-1-二異丙氨基乙硅烷（DCDADS）

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1，1-二氯-1-二異丙氨基乙硅烷（DCDADS）

中文名：1，1-二氯-1-二異丙氨基乙硅烷
英文名：1，1-Dichloro-1-diisopropylaminodisilane
CAS號：2152681-89-3
純度：≥99.0%
用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成氮化硅
規格：公斤級

五氯乙硅烷（PCDS）

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五氯乙硅烷（PCDS）

中文名：五氯乙硅烷
英文名：Pentachlorodisilane
CAS號：31411-98-0
純度：≥99.0%
用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成氮化硅
規格：公斤級

1，1，1-三氯乙硅烷（3CDS）

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1，1，1-三氯乙硅烷（3CDS）

中文名：1，1，1-三氯乙硅烷
英文名：1，1，1-Trichlorodisilane
CAS號：78228-96-3
純度：≥99.0%
用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成氮化硅
規格：公斤級

2，2，4，4-四甲硅烷基戊硅烷（BNS）

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2，2，4，4-四甲硅烷基戊硅烷（BNS）

中文名：2，2，4，4-四甲硅烷基戊硅烷
英文名：2，2，4，4-Tetrasilylpentasilane
CAS號：1668602-96-7
純度：≥98.0%
用途：在低溫通過化學氣相沉積（CVD）快速形成外延硅和多晶硅
規格：公斤級

新戊硅烷（NPS）

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新戊硅烷（NPS）

中文名：新戊硅烷
英文名：Neopentasilane
CAS號：15947-57-6
純度：≥99.0%
用途：在低溫通過化學氣相沉積（CVD）快速形成外延硅和多晶硅
規格：公斤級

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